河北涂层氮化钛生产企业

氮化钛的制备方法有哪些1金属钛粉或TiH2直接氮化法2TiO2碳热还原氮化法3微波碳热还原法4物物理相沉积法5化学气相沉积法6机械合金化法7熔盐合成法8溶胶-凝胶法9自蔓延高温合成法TiN的性质及结构。TiN属于间隙相，熔点高达2955℃，原子之间的结合为共价键、金属键及离子键的混合键，其中金属原子间存在金属键。因此，TiN薄膜具有高硬度（理论硬度21GPa）、优异的耐热耐磨和耐腐蚀等特性，并且具有较好的金属特性：金属光泽、优良的导电性及超导性。TiN具有典型的NaCl型结构，属于面心立方点阵（F.C.C），其中Ti原子占据面心立方的角顶。并且TiN是非计量化合物，Ti和N组成的化合物TiN1-x可以在很宽的组成范围内稳定存在，其范围为TiN0.6—TiN1.16。氮的含量可在一定范围内变化而不引起TiN的结构变化。氮化钛是一种新型的多功能陶瓷材料。在TiC-Mo-Ni系列的金属陶瓷中加入一定氮化钛，使硬质相晶粒较为细化。河北涂层氮化钛生产企业

在深亚微米(0.15μm及以下)集成电路制造中，后段工艺日趋重要，为降低阻容迟滞(RCDelay)，保证信号传输，减小功耗，有必要对后段工艺进行改进，Via阻挡层MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金属有机物化学气相淀积)TiN是其中重要研究课题之一。本论文基于薄膜电阻的理论分析，从厚度、杂质浓度和晶体结构三大薄膜电阻影响因素出发系统研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真实结构中的各种性质，重点是等离子体处理(PlasmaTreatment，PT)下的晶体生长，制备循环次数的选择对薄膜杂质浓度、晶体结构及电阻性能的影响，不同工艺薄膜在真实结构中物理形貌、晶体结构和电阻性能的表现和规律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的实际应用等。俄歇能谱、透射电子显微镜和方块电阻测试证明PT作用下杂质浓度降低，同时晶体生长，薄膜致密化而电阻率降低。PT具有饱和时间和深度，较厚薄膜需多循环制备以充分处理，发现薄膜厚度较小时(本实验条件下为4nm)，增加循环次数虽然进一步降低了杂质浓度，但会引入界面而使薄膜电阻率增加。通过TEM观测发现由于等离子体运动的各向异性，真实结构中PT效率在侧壁远低于顶部和底部，这导致侧壁薄膜在PT后更厚。宿迁镀钛氮化钛价格400℃下制备的碳掺杂氮化钛涂层(C-TiN-400℃),其导电性与耐蚀性均得到明显提升。

50.TiN涂层刀具适用在低速和低温切削条件下，磨损形式主要是粘着磨损和磨粒磨损，表面脆性大，抗拉强度低，涂层当中常常存在有残余应力。而TiAlN涂层刀具随着切削速度的增大，切削温度的提高，刀具表面逐渐形成的致密的Al2O3保护膜具有润滑作用，减少了切削摩擦及切屑对于刀具的黏着，使得切削力进一步减少。Al是增加表面硬度明显的元素，和N有很强的亲和力，可以改变氮的活性系数，从而改变氮的溶解度，具有较好的结合强度和硬度，因此TiN涂层硬度为1900～2200HV，而TiAlN涂层硬度可高达3000～3500HV。

口腔是有生物化学和电化学因素影响的复杂环境，具有较强的腐蚀性。因而对应用于口腔中的金属材料也提出了更高的要求。在磁性附着体的研究及临床应用中，我们发现磁性附着体在口腔中长期使用后所出现的腐蚀和磨损是导致磁性附着体的固位力下降的主要原因，也是影响磁性附着体远期应用效果的主要问题。进一步提高磁性附着体的耐腐蚀性和耐磨损性是解决这一问题的适合途径。近年来，随着当今各种镀膜技术，如化学气相沉积(chemicalvapordepositionCVD)、物物理相沉积(physicalvapordepositionPVD)、等离子体辅助化学气相沉积(physicalchemicalvapordepositionPCVD)、激光辅助化学气相沉积(laserchemicalvapordepositionLCVD)、离子镀(ionplateIP)和离子束辅助沉积技术(ionbeamassisteddepositionIBAD)等不断完善和发展，使具有高硬度、高耐磨性、良好耐腐蚀性的氮化钛纳米膜在国际和国内都得到了适合研究与应用。氮化钛涂层具有令人满意的金黄色，作为代金装饰材料具有很好的仿金、装饰价值并有防腐、延长工艺品的寿命。

比较TiN和TiAlN涂层刀具加工铝锂合金的切削性能和表面质量。方法使用硬质合金、TiN涂层和TiAlN涂层三种刀具,对2198-T8型铝锂合金进行干式铣削试验。改变切削因素的水平,比较刀具磨损、铝锂合金的表面粗糙度、切削力和切屑形态。结果铣削铝锂合金时,刀具主要磨损为粘附磨损,TiN涂层的粘附程度比较低,硬质合金次之,TiAlN涂层表面粘附较好严重,切削效能比较低。粘附磨损严重影响铣削成形的表面粗糙度,并使铣削力增加。铣削速度是影响工件表面粗糙度的主要因素,通过提高铣削速度可明显降低材料的粘结程度,降低表面粗糙度与铣削力,TiN涂层在铣削铝锂合金时较好小表面粗糙度可达到0.5μm以下。在相同的切削参数下,TiN涂层断屑均匀,切屑表面较为光滑,切屑塑性变形较好小。硬质合金刀具产生的切屑尺寸较短,切屑表面有少量带状条纹,TiAlN涂层刀具产生的切屑发生了严重的塑性变形。结论与TiAlN涂层和硬质合金刀具相比,TiN涂层刀具在铣削铝锂合金时的切削效能比较好,可以达到比较好的表面粗糙度和加工效果Ti N机械性能测试表明 :具有 Ti N涂层样品的显微硬度较为高于 Ti合金基材 ,同时耐磨性能也明显得到改善 。宿迁镀钛氮化钛价格

氮化钛具有金属光泽，可作为仿真的金色装饰材料，在代金装饰行业中具有良好的应用前景。河北涂层氮化钛生产企业

氮化钛具有耐腐蚀性强、抗氧化性好、化学稳定性高以及电导性好等优点。本文以阳极氧化法制得的纳米TiO2薄膜、多孔结构和纳米管材料为前驱体,通过氨气高温还原氮化法制得了纳米氮化钛薄膜、多孔结构和纳米管材料。XRD和EDS分析结果表明,三种纳米结构氮化钛的化学组分均只含Ti、N两种元素,且前驱体TiO2已经被完全转化为氮化钛,主要以TiN相和Ti2N相存在。SEM结果表明,高温氮化得到的三种纳米结构氮化钛仍保持了前驱体的微观结构,氮化钛多孔结构和纳米管均具有有序阵列特征,纳米管管径和孔道直径均小于100nm,TiN薄膜表面具有很多大小不均的突起颗粒。四探针法测试得到三种纳米氮化钛的电阻率约为5.0×l0-7?·m,显示了很好的电子导电性。恒电位阶跃测试得到氮化钛纳米管的真实表面积为1591.2cm2,多孔结构为366.3cm2,薄膜为125.8cm2。采用线性伏安曲线和Tafel曲线研究了制备得到的三种纳米结构氮化钛电极在硫酸溶液中的电化学析氢性能。研究表明,虽然三种TiO2前驱体具有较大的比表面积,但由于其导电性较差,导致析氢过电位高,而形成氮化物后则能显著提高其析氢能力。氮化钛纳米管电极真实表面积比较大,且高度有序的纳米管阵列结构,具有比氮化钛薄膜和多孔结构更好的析氢电催化活性。河北涂层氮化钛生产企业